簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "Chao-Chang Chen".eadvisor (精準) and ckeyword.raw="電場輔助化學機械拋光"


  • 在搜尋的結果範圍內查詢: 搜尋 展開檢索結果的年代分布圖

  • 個人化服務

    我的檢索策略

  • 排序:

      
  • 已勾選0筆資料


      本頁全選

    1

    電場輔助化學機械拋光製程於銅膜平坦化之研究
    • 機械工程系 /99/ 碩士
    • 研究生: 謝啟祥 指導教授: 陳炤彰
    • 化學機械拋光(Chemical Mechanical Polishing, CMP)因具有快速移除材料且可達全面性平坦化之需求而成為近來半導體製程中最受矚目的平坦化技術,但隨著圖型尺寸逐漸微小化以及…
    • 點閱:291下載:31
    1